English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 46962/50828 (92%)
造訪人次 : 12449909      線上人數 : 689
RC Version 6.0 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 查詢小技巧:
  • 您可在西文檢索詞彙前後加上"雙引號",以獲取較精準的檢索結果
  • 若欲以作者姓名搜尋,建議至進階搜尋限定作者欄位,可獲得較完整資料
  • 進階搜尋
    主頁登入上傳說明關於CCUR管理 到手機版


    請使用永久網址來引用或連結此文件: https://irlib.pccu.edu.tw/handle/987654321/3265


    題名: 氙弧光、紫外光及日光對超高分子量聚乙烯之抗彈性能之影響
    The Study on the UHMWPE of the Ballistic Resistance with Xenon Arc Lamp Light, UV Light and Daylight Overshine
    作者: 李貴琪
    許栢維
    張哲禎
    貢獻者: 紡工系
    關鍵詞: 氙弧光
    紫外光
    日光
    超高分子量聚乙烯
    抗彈
    日期: 2004-12-01
    上傳時間: 2010-05-25 10:21:40 (UTC+8)
    摘要: 本研究是針對超高分子量聚乙烯對光線的敏感性做進一步了解,以日光照射超高分子量聚乙烯來探討其強力下降的趨勢並以氙弧光模擬日光照射超高分子量聚乙烯,互相比較強力與抗彈性能的差異,由結果得知日光照射對超高分子量聚乙烯織物的強力及抗彈性能會較氙弧光、紫外光影響較深。

    The study is aimed at UV light sensitivity of UHMWPE for more understanding, and researching the tendency of tension decreasing by Xenon arc lamp light to simulate the daylight shining the UHMWPE. Comparing the difference of tension and ballistic resistance property. In results indicate that the strength and ballistic resistance property of the one shining by daylight is damaged more serious than the Xenon arc lamp light and UV light.
    關聯: 華岡紡織期刊 11卷4期 P.408-416
    顯示於類別:[紡織工程學系] 學報-華岡紡織期刊

    文件中的檔案:

    檔案 描述 大小格式瀏覽次數
    index.html0KbText312檢視/開啟


    在CCUR中所有的資料項目都受到原著作權保護.


    DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋