文化大學機構典藏 CCUR:Item 987654321/22284
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    题名: 以脈衝雷射蒸鍍YIG(Y3Fe5O12)薄膜
    Deposition of YIG(Y3Fe5O12) Thin Films by Pulsed Laser Deposition
    作者: 蘇睦庭(M. T. Su)
    陳建甫(C.F. Chen)
    江文中(Wen-C. Chiang)
    贡献者: 物理系
    关键词: YIG
    GGG
    脈衝雷射蒸鍍
    ArF準分子雷射
    靶材
    X-光繞射分析
    Pulsed Laser Deposition (PLD)
    ArF Excimer Laser
    Target；X-ray Diffraction Analysis
    日期: 2002
    上传时间: 2012-05-14 11:34:13 (UTC+8)
    摘要: YIG(Y3Fe5O12)為磁光元件與磁記憶等科技之重要材料，其中尤以薄膜型式應用最為廣泛。YIG薄膜常以脈衝雷射蒸鍍（pulsed laser deposition，簡稱PLD）方式製備。本文詳述以脈衝雷射蒸鍍法成長YIG薄膜於GGG（Gd3Ga5O12）（111）與GGG（110）基板的完整過程，其中包括PLD系統簡介、實驗方法與步驟、以及樣品分析等；而鍍製於基板上之薄膜，經X-光繞射分析後，確認其為YIG（111）及YIG（110）。
    YIG(Y3Fe5O12) is a garnet material with broad applications in magneto-optical and memory devices, and the application are mostly in the form of thin films. YIG thin films are often prepared by the technique of Pulsed Laser Deposition (PLD). This paper describes the detailed procedure of dedepositing YIG thin films onto GGG(Gd3Ga5O12)(111) and GGG(110) substrates by PLD. The content consists of PLD system description, experimental procedures, and sample analysis. X-ray diffraction analysis confirms that the final products on GGG(111) and GGG(110) are YIG(111) and YIG(110) thin films, respectively.
    關聯: 華岡理科學報 ； 19 期 (2002 / 05 / 01) ， P31 - 40
    显示于类别:[光電物理系] 期刊論文

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