探討微波加熱法在軟性顯示器噴印技術上的應用

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Title:	探討微波加熱法在軟性顯示器噴印技術上的應用
Authors:	蔡志維
Keywords:	導電性高分子噴印技術微波加熱法塑膠材料
Date:	2007
Issue Date:	2009-08-24 13:19:42 (UTC+8)
Abstract:	軟性顯示器因其具有可繞性或彎曲性，同時還可以依產品可利用空間的大小及形狀採取不同的設計顯示，使產品符合輕、薄之需求，因此引起大家廣泛的興趣，但是軟性顯示器亦因其材質既軟且薄的特性，於生產中需要不同的技術搭配，就製成簡易而言，研究方向大都希望採用噴墨印製之量產技術。在噴墨印製技術裡，當塗佈導電性高分子溶液於基材上，在約125℃乾燥過程中，塑膠基材常會因伸縮或膨脹而變形，影響尺寸的大小，因此本研究擬利用微波加熱法代替傳統的烘箱加熱法，利用塑膠基材本身不吸收微波的特性，來改善尺寸安定性的問題。當試片製作完成後分別利用四點探針量測電阻值，利用場發射式電子顯微鏡分析試片膜厚，利用原子力顯微鏡分析試片表面粗糙度與利用分光光析儀分析試片之透光度。其中，在烘箱加熱法與聚焦式微波加熱法的比較之實驗結果方面顯示；(1)利用聚焦式微波系統加熱時，基材與原尺寸大小無異，無收縮現像；(2)聚焦式微波加熱法可降低在基材上之Baytron P膜表面之粗糙度及電阻值，在透光度方面，傳統烘箱加熱法則略優於聚焦式微波加熱法。(3)高分子導電溶液塗佈於塑膠基材時，微波系統設定溫度愈高電阻值愈低，透光度(T%)愈佳。對於聚焦式微波加熱系統加熱探討塗布Baytron P之PP塑膠基材之實驗結果顯示;(1)當微波系統設定的功率愈高，可達到設定溫度的時間也愈短； (2)以Baytron P與ETOH調配不同的比例，塗佈在PP塑膠基材上，可增加Baytron P在基材上之附著性，且在 0.5以上的比例時平衡溫度可達到設定溫度；(3)以Baytron P/ETOH的比例為0.5塗佈於PP塑膠基材上，完全乾燥時間約為30分鐘，以及膜厚為89.5μm，電阻值可達2.055Ω‧cm，表面租糙度為1.578nm，透光度在波長500nm下為80%左右；(4)利用聚焦式微波系統加熱時，電阻會隨著加熱溫度先下降而上升，最低點在125℃之間，而透光度隨著加熱溫度的提高有上升的現像。在比較不同含浸法方面結果顯示，使用壓印法進行試片製作；(1)壓力機之最佳壓力條件參數為500psi，15分鐘為壓力法之最佳壓力時間，測得膜厚約為84.6μm，電阻值約為2.814Ω‧cm，表面粗糙度約為1.817nm，透光度在波長500nm下約為99.533%；(2)利用一般含浸法與壓印法作比較，含浸法在電阻與粗糙度之物性表現優於壓印法，但壓印法在透光度方面優於含浸法。
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